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台积电5nm光刻技术 在IEEE IEDM会议上,台积电发表了一篇论文,概述了其5nm工艺的初步成果.对于目前使用N7或N7P工艺的客户来说,下一步将会采用此工艺,因为这两种工艺共享了一些设计规则.新的5nm制程使用了台积电的第五代FinFET技术,在7纳米基础上提供一个完整的工艺节点,并使用EUV极紫外光刻技术扩展到10多个光刻层,与7纳米相比减少了生产总步骤. 关键数字 如果只是来了解关键数字的,那答案就在这里.台积电表示,5nm EUV工艺使得晶体管密度增加到大致1.84倍,能效提升15%…
台积电正式宣布了6nm(N6)工艺,在已有7nm(N7)工艺的基础上大幅度增强,号称可提供极具竞争力的高性价比,而且能加速产品研发.量产.上市速度. 这几年,曾经执行业牛耳的Intel在新工艺方面进展迟缓,10nm工艺迟迟无法规模量产,一个很关键的原因就是对技术指标要求高,投产难度大. 而在另一方面,台积电.三星却是一路高歌猛进,除了技术方面的突破,还采取了更灵活的战术,降低新工艺技术难度,并且每次稍加改进就拿出一个新版本,让人目不暇接. 比如台积电的16nm是个重要节点,12nm则是在其基础上…
日前,台积电宣布,正式启动2nm芯片工艺的研发,工厂将会设置在台湾新竹的南方科技园,预计2024年投入量产,发言人称:2nm工艺是一个重要节点,目标是比3nm制程缩小23%.科技先锋总会打脸分析专家,正当专家们纷纷预测摩尔定律已经失效的时候,台积电的大佬却幡然提出要做2nm芯片,如果能成功,显然又是一次经典的打肿脸. 但显然,人类要实现2nm制程还有很长的路要走,要先从7nm升级到6nm,然后,再突破性地完成5nm.4nm.3nm,最终来到2nm,每一个纳米都意味着芯片企业要鼓足勇气,迈出很大的…
近日,有报道表示台积电10nm 芯片可怜的收益率可能会对 2017 年多款高端移动设备的推出产生较大的影响,其中自然包括下一代 iPhone 和 iPad 机型.不过,台积电正式驳斥了这一说法,表明10纳米处理器生产完全按计划进行,并没有出现任何延滞,并且这款处理器在明年第一季度就会开始盈利. 同时台积电还放出另一个重磅消息.台积电还表示,明年公司的生产计划是7纳米处理器,到2019年会生产5nm处理器,支持高端移动设备获得新功能,如VR/AR等.今年10月也有报道显示台积电已经开始进行于201…
最近,关于iPhone6s A9处理器版本的事情的话题很热,最后都闹到苹果不得不出来解释的地步,先不评判苹果一再强调的整机综合续航差2~3%的准确性,但是三星14nm工艺相比台积电16nm工艺较差已经可以说是板上钉钉的事了. 那么问题来了,工艺不是纳米数越小就越好吗?14nm怎么会比16nm还差呢?这个问题不仅小白消费者困惑了,连看似专业的Anandtech和 GeekBench的人也表示不解.其实对这个结果,真正半导体领域特别是工艺领域的从业人员是有预期的,其中的原因也是非常清楚的,既然大家有…
台积电近10万片晶圆报废,但7nm工艺将成2019营收主力 2019年02月18日 13:19 1784 次阅读 稿源:Expreview超能网 0 条评论 https://www.cnbeta.com/articles/tech/819211.htm 在台积电创始人张忠谋去年裸退之后,台积电已经发生两次严重的生产事故了,去年爆出的工厂机台中毒事件最终损失不过26亿新台币,但是1月份爆出的晶圆污染事件要严重得多,最初爆料称损失上万片晶圆,上周有消息说是4万片晶圆,现在最新说法是台积电为了展示负责…
AMD 锐龙 5 AMD 锐龙 5 3500X 处理器 6核心6线程,基准时钟频率3.6GHz,最大加速时钟频率4.1GHz,一级缓存384KB,总二级缓存3MB,三级缓存32MB,内存支持最高DDR4 3200MHz,TDP 65W 盒装1099元 https://www.amd.com/zh-hans/products/cpu/amd-ryzen-5-3500x AMD 锐龙 5 3600 处理器 6核心12线程,基准时钟频率3.6GHz,最大加速时钟频率4.2GHz,一级缓存384KB,总…
文章主体转载自: 1.zol摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望 2.wiki:Extreme ultraviolet lithography 3.ITRS 2012 1. 光刻技术组成和关键点 ● 光刻技术的组成与关键点 光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工表面上. 主要组成部分如下: 光源 功率W 波长$ \lambda $ 光学透镜 透射式透镜(248nm.193nm) 反射式透镜(157nm) 掩膜版 由透光的…
接上一篇介绍IC制造的基本过程,光刻的基本过程.这篇文章继续介绍光刻过程中的一些概念. 该系列文章的目录如下: [IC]Lithograph(0)半导体制造的基本过程 [IC]Lithograph(1)光刻技术分析与展望 [IC]Lithograph(2)光刻技术的分辨率与分辨率增强技术 1. 光刻投影系统的分辨率 投射到晶圆片上的特征图的精度,取决于投影系统的光波长,以及经过光掩膜板(illuminated mask)衍射光的衍射级次有多少能被会聚透镜(缩图透镜the reduction le…
点菜网---Java开源生鲜电商平台-技术选型(源码可下载) 1.内容简介 点菜网目前选用的是最流行的微服务架构模式,采用前后端分离的开发模式,具备高可用,高负载,支持千万级别的数据量的请求. 2. 系统架构图 3. 技术选型 前后端分离的企业级微服务架构 基于Spring Boot 2.0.X.Spring Cloud Finchley和Spring Cloud Alibaba 主要针对解决微服务和业务开发时常见的非功能性需求 深度定制Spring Security真正实现了基于RBAC.jw…